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臭氧作为氧化前体在ALD加工中的应用 随着纳米半导体工艺发展到原子水平，原子层沉积技术变得更有吸引力，并已经看到了一些应用。能够提供活性氧的前驱体是高k栅氧化沉积的关键
更新时间：2023-04-18
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在半导体和ALD中使用臭氧发生器的优势 随着晶圆结构变得越来越复杂，晶圆湿法清洗工艺在半导体制造中变得越来越重要。在半导体制造中，清洁度对于确保最终器件的质量和性能至关
更新时间：2023-03-28产品型号：浏览量：1360
使用二酮酸二胺镍和臭氧组合制备氧化镍薄膜工艺研究 在这项研究中，描述了一种原子层沉积 ( ALD ) 工艺，该工艺通过使用二酮酸镍 - 二胺 (Ni (acac)2(TMEDA) 的组合来制备具有高生长速率
更新时间：2022-04-19产品型号：浏览量：703ALD、半导体用臭氧发生器有哪些品牌 近些年半导体、ALD蓬勃发展，臭氧被电子工业用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。我们介绍几款能满足半导体行业
更新时间：2022-01-19产品型号：浏览量：2280
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